泊菲萊高溫高壓光催化反應系統

關(guān)鍵特征

● 實(shí)現較低氣體流速的高溫高壓下的微分式光催化反應；

● 可用于氣固相光催化、液固相光催化反應的微分式或積分式光化學(xué)反應；

● 氣體流速可三路獨立控制，使用超厚石英光窗，可用于全光譜范圍內的光化學(xué)反應；

● 具有二級穩流閥及二級穩壓閥控制，三路進(jìn)氣可分別控制。

應用領(lǐng)域            ▲特別適用   ●較為適用  ○可以使用

▲ 光降解液體污染物（如染料、苯及苯系物等）        ▲ 光催化CO2還原

▲ 其他高溫高壓（光）化學(xué)反應        

● 光催化分解水制氫/氧                   ● 光催化全分解水                                

● 光降解氣體污染物（如VOCs 、甲醛、氮氧化物、硫氧化物等）                                             

○ 光催化量子效率測量                    ○光合成                 ○ PEC光電化學(xué)

技術(shù)參數

● 反應溫度 :室溫+10  ℃~300 ℃ (高可達380  ℃);

● 反應壓力:1~10 MPa;

● 反應容積:50 mL（可定制25、100 mL）;

● 氣路數量:3路;

● 氣體總流量:1 mL/min~60 mL/min;

● 具有安全泄壓閥:7 MPa（可調節）, 反應體系溫度、壓力儀表顯示;

● 獨立高壓氣體混勻室 :1 L，氣體在實(shí)驗中的連續長(cháng)時(shí)間供應,具有二級穩流閥及二級穩壓閥控制，三路進(jìn)氣可分別控制;

● 末端電子皂膜流量計，用于氣體流量監測（10~60 mL/min寬范圍調節）;

● 整體安全一體式防護箱設計，了實(shí)驗的安全性;