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上海辰華CHI400C系列電化學(xué)石英晶體微天平

上海辰華CHI400C系列電化學(xué)石英晶體微天平

簡(jiǎn)要描述:上海辰華CHI400C是CH Instruments與武漢大學(xué)合作的產(chǎn)品。石英晶體微天平(QCM)可進(jìn)行靈敏的質(zhì)量測量。在適當的條件下,上海辰華CHI400C系列電化學(xué)石英晶體微天平石英晶體上沉積的質(zhì)量變化和振動(dòng)頻率移動(dòng)之間關(guān)系呈簡(jiǎn)單的線(xiàn)性關(guān)系(Sauerbrey公式):

產(chǎn)品型號:

所屬分類(lèi):上海辰華電化學(xué)工作站

更新時(shí)間:2023-08-03

廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商

詳情介紹
品牌其他品牌價(jià)格區間面議
儀器種類(lèi)國產(chǎn)應用領(lǐng)域醫療衛生,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子

上海辰華CHI400C系列電化學(xué)石英晶體微天平產(chǎn)品介紹:

CHI400C系列時(shí)間分辨電化學(xué)石英晶體微天平(EQCM)是CH Instruments與武漢大學(xué)合作的產(chǎn)品。石英晶體微天平(QCM)可進(jìn)行靈敏的質(zhì)量測量。在適當的條件下,石英晶體上沉積的質(zhì)量變化和振動(dòng)頻率移動(dòng)之間關(guān)系呈簡(jiǎn)單的線(xiàn)性關(guān)系(Sauerbrey公式):

Df = -2fo2 Dm / [A · sqrt(mr)]

式中是fo晶體的基本諧振頻率,A是鍍在晶體上金盤(pán)的面積,r是晶體的密度(=2.684g/cm3),m是晶體切變系數(= 2.947′1011 g/cm·s2)。對于我們的晶體(fo = 7.995MHz, A = 0.196 cm2),每赫茲的頻率改變相當于1.34 ng。QCM和EQCM被廣泛應用于金屬沉積,高分子膜中離子傳遞,生物傳感器,以及吸附解吸動(dòng)力學(xué)的研究等等。


上海辰華CHI400C系列電化學(xué)石英晶體微天平含石英晶體振蕩器,頻率計數器,快速數字信號發(fā)生器,高分辨高速數據采集系統,電位電流信號濾波器,信號增益,iR降補償電路,以及恒電位儀/恒電流儀(440C)。電位范圍為±10V,電流范圍為±250mA。電流測量下限低于50pA。石英晶體微天平和恒電位儀/恒電流儀集成使得EQCM測量變得十分簡(jiǎn)單方便。CHI400C系列采用時(shí)間分辨的方式測量頻率的改變。傳統的方法是采用頻率直接計數的方法,要得到1Hz的QCM分辨率,需要1秒的采樣時(shí)間。要得到0.1Hz的QCM分辨率,需要10秒的采樣時(shí)間。我們是將QCM的頻率和一標準頻率的差值作周期測量,從而大大縮短了采樣時(shí)間,提高了時(shí)間分辨。我們可在毫秒級的時(shí)間里得到1Hz或0.1Hz或更好的頻率分辨。當和循環(huán)伏安法結合時(shí),可允許在0.5V/s的掃描速度下獲得QCM的信號。這對需要較快速的測量(例如動(dòng)力學(xué)測量)尤為重要。允許與QCM結合的電化學(xué)實(shí)驗技術(shù)包括CV,LSV,CA,i-t,CP。


400C系列在測量QCM頻率變化的同時(shí),還能測量晶體諧振網(wǎng)絡(luò )的電阻變化。


400C系列也是相當快速的儀器。信號發(fā)生器的更新速率為10MHz,數據采集速率為1MHz。循環(huán)伏安法的掃描速度為1000V/s時(shí),電位增量?jì)H0.1mV。又如交流伏安法的頻率可達10KHz。儀器可工作于二,三,或四電的方式。四電對于大電流或低阻抗電解池(例如電池)十分重要,可消除由于電纜和接觸電阻引起的測量誤差。由于儀器集成了多種常用的電化學(xué)測量技術(shù),使得儀器可用作通用電化學(xué)測量,也可單獨用作石英晶體微天平的測量(不同時(shí)進(jìn)行電化學(xué)測量)。


CHI400C系列EQCM還包括一個(gè)特殊設計的電解池,如圖1(a)所示。電解池由三塊圓形的聚四氟乙烯組成。直徑為35mm,總高度為37mm。上面的是蓋子,用于安裝參比電和對。中間的是用于放溶液的池體。石英晶體被固定于中間和底下的部件之間,通過(guò)橡膠圈密封,并用螺絲固定。石英晶體的直徑為13.7mm,晶體兩面的中間鍍有5.1mm直徑的金盤(pán)電(其它電材料需特殊定做)。新晶體的諧振頻率是7.995 MHz。


硬件參數指標:

恒電位儀

恒電流儀 (Model440C)

電位范圍: -10to10V

電位上升時(shí)間:<2微秒

槽壓: ±12V

三電或四電設置

電流范圍: 250mA

參比電輸入阻抗: 1′1012歐姆

靈敏度: 1′10-12-0.1A/V共12檔量程

輸入偏置電流:<50pA

電流測量分辨率:<1pA

CV的小電位增量: 0.1mV

電位更新速率: 10MHz

數據采集: 16位分辨@1MHz

自動(dòng)及手動(dòng)iR降補償

CV和LSV掃描速度: 0.000001-5000V/s

電位掃描時(shí)電位增量: 0.1mV@1000V/s

CA和CC脈沖寬度: 0.0001-1000sec

CA和CC階躍次數: 320

DPV和NPV脈沖寬度: 0.0001-10sec

SWV頻率: 0.1-100kHz

ACV頻率: 0.1-10kHz

SHACV頻率: 0.1-5kHz

自動(dòng)電位和電流零位調整

電流測量低通濾波器,自動(dòng)或手動(dòng)設置,覆蓋八個(gè)數量級的頻率范圍

旋轉電控制輸出: 0-10V(430C以上型號)

電解池控制輸出: 通氮,攪拌,敲擊

大數據長(cháng)度: 256K-16384K點(diǎn)可選

儀器尺寸: 37cm (寬) x 23cm (深) x 12cm (高)

儀器重量: 3.3kg

CHI400C系列儀器不同型號的比較:

功能

400C

410C

420C

430C

440C

循環(huán)伏安法(CV)

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線(xiàn)性?huà)呙璺卜ǎ↙SV)#

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階梯波伏安法(SCV)#




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Tafel圖(TAFEL)




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計時(shí)電流法(CA)

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計時(shí)電量法(CC)

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差分脈沖伏安法(DPV)#


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常規脈沖伏安法(NPV)#


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差分常規脈沖伏安法(DNPV)#





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方波伏安法(SWV)#



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交流(含相敏)伏安法(ACV)#




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二次諧波交流(相敏)伏安法(SHACV)#




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電流-時(shí)間曲線(xiàn)(i-t)




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差分脈沖電流檢測(DPA)





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雙差分脈沖電流檢測(DDPA)





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三脈沖電流檢測(TPA)





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控制電位電解庫侖法(BE)

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流體力學(xué)調制伏安法(HMV)





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掃描-階躍混合方法(SSF)





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多電位階躍方法(STEP)





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計時(shí)電位法(CP)





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電流掃描計時(shí)電位法(CPCR)





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多電流階躍(ISTEP)





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電位溶出分析(PSA)





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開(kāi)路電壓-時(shí)間曲線(xiàn)(OCPT)

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恒電流儀





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RDE控制(0-10V輸出)




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任意反應機理CV模擬器




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預設反應機理CV模擬器

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價(jià)格(元)*

32,300

32,300

41,500

50,700

57,600

注: #:包括相應的譜法和溶出伏安法.用于譜法時(shí)需要特殊的靜汞電或敲擊器.

*:價(jià)格不包括計算機.儀器的保修期為一年.



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