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光焱量子科技激光掃描缺陷測繪系統

光焱量子科技激光掃描缺陷測繪系統

簡(jiǎn)要描述:光焱量子科技激光掃描缺陷測繪系統激光掃描缺陷影像儀,是激光束誘導電流測試(LBIC)的升級版,利用波長(cháng)能量大于半導體能隙大的激光束,照射在半導體后產(chǎn)生的電子-空穴對,通過(guò)快速的掃描樣品表面,獲得影像分布,可以得到內部電流的變化來(lái)了解分析各種的缺陷分布,幫助分析樣品制備質(zhì)量以及幫助工藝改進(jìn)。

產(chǎn)品型號: LSD4

所屬分類(lèi):光焱量子效率分析儀

更新時(shí)間:2023-08-03

廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商

詳情介紹
品牌其他品牌應用領(lǐng)域醫療衛生,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子

 


ENLI LSD4 激光掃描缺陷測繪系統 產(chǎn)品敘述


激光掃描缺陷影像儀,是激光束誘導電流測試(LBIC)的升級版,利用波長(cháng)能量大于半導體能隙大的激光束,照射在半導體后產(chǎn)生的電子-空穴對,通過(guò)快速的掃描樣品表面,獲得影像分布,可以得到內部電流的變化來(lái)了解分析各種的缺陷分布,幫助分析樣品制備質(zhì)量以及幫助工藝改進(jìn)。

ENLI LSD4 激光掃描缺陷測繪系統 規格


型號項目規格
1-1激發(fā)波長(cháng)a. 405 ± 5 nm(高可擴充至 4 個(gè)雷射)
b. 多波長(cháng)切換設計
c. 可軟件控制輸出波長(cháng)
1-2激光光點(diǎn)a. TEM00 光斑
b. 單一波長(cháng)光斑 < 100 um
c. 全系列波長(cháng) < 200 um
1-3掃描范圍a. 掃描面積:10 cm x 10 cm
b. 可客制超過(guò) 16 cm x 16 cm之掃描范圍
1-4掃描分辨率a. 掃描分辨率
- 10 um, ? 20 mm x 20 mm
- 50 um, ? 100 mm x 100 mm
b. 掃描頻率
- 10 Hz, 25 Hz及 50 Hz
- 10 Hz, ? 4,000,000 像素
c. 可由軟件設定掃描分辨率
1-5訊號量測模塊a. 16 bit A/D 解析能力
b. S/N 可達>1000 以上
c. 超低噪聲放大器模塊
1-6量測時(shí)間a. <1 mins (For 20 mm x 20 mm with 50 um resolution)
b. <13 mins (For 160 mm x 160 mm with 50 um resolution)
1-7尺寸60 cm x 60 cm x 100 cm
1-8測量分析軟件a. 激發(fā)波長(cháng)切換
b. 雷射功率調整
c. LBIC 3D 圖示
d. 2D 剖面分析(電深寬度比)
e. 光電流回應分布分析(搭配長(cháng)波長(cháng)激光器)
f. 數據保存與輸出功能
1-9計算機系統a. x86 兼容計算器包含屏幕鍵盤(pán)與鼠標
b. 微軟操作系統
1-10選購項目1:
連續光雷射
a. 可添加 375 nm/ 450 nm/ 520 nm/ 638 nm/ 650 nm/ 780 nm ± 5 nm
b. b. 小功率:50 mW
c. TEM00 輸出
d. 功率輸出穩定度:<2 %
1-11選購項目2:
外加偏壓功能
a. 可施加偏壓(0~5 V)(可擴充更大電壓范圍)
b. 軟件控制(選配)


ENLI LSD4 激光掃描缺陷測繪系統 特點(diǎn)


● 可掃描光電流在樣品表面的分布圖像
● 可掃描各光電壓在樣品表面的分布圖像
● 可掃描開(kāi)路電壓與短路電流分布
● 可分析表面臟污。
● 可分析短路區域分布
● 可辨識分析隱裂區域。
● 可分析少數載子擴散長(cháng)度分布 (選配)
● 可做單波長(cháng)量子效率 Mapping




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