磁場(chǎng)退火高溫爐 是由升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，Labview控制軟件，電磁鐵，高精度雙性恒溫電源，分子泵組，水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。

該高溫磁場(chǎng)加熱爐系統是由分子泵組中的機械泵（干泵）先對真空腔體（樣品腔）進(jìn)行粗抽，達到可以開(kāi)啟分子泵的限真空時(shí)，在開(kāi)啟分子泵進(jìn)行高真空的抽取，達到客戶(hù)所需的真空度。打開(kāi)軟件，通過(guò)在軟件中輸入需要的磁場(chǎng)值和溫度值，通過(guò)閉循環(huán)反饋調節，使設備內樣品的溫度自動(dòng)控制并穩定在某一個(gè)溫度值，軟件可以按照用戶(hù)給定的實(shí)驗條件完成實(shí)驗。

磁場(chǎng)控制：用戶(hù)可以直接通過(guò)軟件設定所需要的磁場(chǎng)大小，由高精度高斯計讀取實(shí)際磁場(chǎng)值，再將實(shí)際讀出的磁場(chǎng)值反饋給高精度恒流電源，通過(guò)電源內部軟件處理后，直接由控制高精度恒流電源的輸出電流，從而實(shí)現用戶(hù)所需要的磁場(chǎng)，并實(shí)時(shí)顯示在軟件上；

溫度控制：通過(guò)在軟件上人機交互界面直接設置所需要的溫度值，計算機軟件處理后指令到達高溫爐加熱控制器?？刂破魍ㄟ^(guò)溫度傳感器（熱電偶）讀出樣品區的實(shí)際溫度值，并通過(guò)其內部設置的模糊控制PID調節輸出電流的大小，總而使溫度值穩定在某一精度范圍內，從而實(shí)現用戶(hù)所需要的不同溫度。

真空環(huán)境：通過(guò)分子泵組獲得真空環(huán)境，由高真空全量程真空計顯示并監控，并實(shí)時(shí)的將檢測結果傳遞給計算機。

退火過(guò)程：在強磁場(chǎng)（或無(wú)磁）環(huán)境下對樣品進(jìn)行加熱，加熱到一定溫度（用戶(hù)需要自己設定）并保持在該溫度，再持續加一個(gè)磁場(chǎng)（可隨時(shí)變化），達到用戶(hù)的目的后，關(guān)閉磁場(chǎng)，關(guān)閉加熱環(huán)境，冷卻到室溫。

樣品環(huán)境：高溫磁場(chǎng)加熱爐可以將被測樣品同時(shí)置于強磁場(chǎng)、高真空、高溫環(huán)境中。同時(shí)也可以單獨或任意組合這三種實(shí)驗環(huán)境，滿(mǎn)足不同樣品在不同環(huán)境下的測試要求。

適應范圍：需在高溫、高真空、強磁場(chǎng)環(huán)境中加熱或去磁的各種軟磁性材料。

主要技術(shù)指標：

※ 真空室及主要零部件材質(zhì)均為304無(wú)磁不銹鋼；

※ 采用的真空獲得系統為分子泵組；真空測量為數顯全量程真空計；

※ 真空度及漏率：① 真空室限真空度6′10^-5Pa(冷態(tài))；②漏率<10^-11Pa.L/s，真空度隨著(zhù)溫度變化，會(huì )出現波動(dòng)，屬于正常情況；

※ 在室溫到900度，升溫速率優(yōu)于100K/min，高溫加熱溫度1000℃；控溫精度：±1℃；

※ 加熱時(shí)，加熱絲被封裝在石英管內，大程度的減少由于加熱絲的揮發(fā)造成樣品表面附著(zhù)物的污染；

※ 匹配磁鐵電源：雙性，穩定度優(yōu)于50ppm/h，平滑過(guò)零無(wú)斷點(diǎn)；

※ 匹配電磁鐵：長(cháng)時(shí)間運行穩定度<±0.5Gs；

※ 冷卻方式：水冷。